西安交大均热板新突破:大功率芯片热阻大降 35%
来源 | Applied Thermal Engineering
链接 | https://doi.org/10.1016/j.applthermaleng.2025.127574
01
背景介绍
随着芯片集成度提升,HPC、AI、5G 等场景下芯片功率与热流密度激增,传统单相金属散热方案无法满足需求,亟需高效散热器件。VC作为热管技术的升级(扁平结构、更大传热面积),核心在于吸液芯;现有 VC存在技术局限 —— 小尺寸 VC(投影面积 2500~15000 mm²)散热面积不足,大尺寸 VC液体流动阻力大,难以同时兼顾高功率散热与高热流耐受。
02
成果掠影

近日,西安交通大学杨小平团队基于尺度适应原理,创新性地提出了“大面积VC匹配大粒径烧结芯”的设计理念。设计并研究了投影面积 40000 mm² 的大面积铜制均热板(VC) ,对比了采用100 μm 和200 μm 球形烧结铜粉吸液芯的两种样品(VC-1 和 VC-2)性能;结果显示,VC-2 的热阻较 VC-1 显著降低35.4% ,在冷却液温度 40℃的严苛条件下,其最大散热量达1100 W(对应热流密度220 W/cm² ),同时维持0.015 K/W 的超低热阻,成功突破现有 VC 在高功率与高熱流兼顾上的技术限制,为下一代大功率电子设备散热提供解决方案。研究成果以“A high capability vapor chamber in thermal management of high power and heat flux chips”为题发表在《Applied Thermal Engineering》期刊。
03
图文导读

图1. VC工作机制(a)VC在服务器中的应用(B)VC结构和工作原理。

图2.蒸汽室结构示意图(a)VC结构的尺寸布局(b)VC凸台位置分布(c)物理VC照片。

图3.蒸发室的蒸发器侧结构(b)结构的加热区中的支撑柱分布。

图4.具有双峰粒度分布的烧结芯的SEM图像。

图5.实验测试系统的物理示意图。

图6.实验测试系统示意图。

图7.不同输入功率下100 μm烧结粉末蒸汽室的传热机理(左)。不同输入功率下200 μm烧结粉末蒸汽室的传热机理(右)。
